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半導(dǎo)體襯底成膜方案

半導(dǎo)體襯底成膜方案

 

深溝槽襯底應(yīng)用案例(縱橫比1:15)

 

半導(dǎo)體襯底成膜方案(圖1)半導(dǎo)體襯底成膜方案(圖2)

效果

在溝槽底部,從側(cè)壁到底部可以基本形成同一SiO2膜厚

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